G1750型高壓控制調節閥是氣動單元組合儀表的執行機構,是化學工業、石油工業中用來控制高壓聚合反應的關鍵設備,它具有操作方便,性能,防火,防爆的特點,它和調節器等其他儀表相配合,對反應釜的壓力進行自動調節和遠程控制。 | ||
VAU超高壓角閥 | 簡 介閥體閥體材料 炮鋼供氣壓力 0.04~0.60MPa輸入信號 0.02~0.10MPa介質壓力 標定175MPa入口175MPa,出口25~30MPa閥行程 4mm分程制作:手動:2mm;自動2mm.介質溫度 -20~+225攝氏度接管尺寸 入口GI"(左旋)出口G1.5"閥座直徑 3,6.4 8mm標準附件 ZPQ-S69氣動閥門定位器,閥位傳送器,鎖子閥性能線性 正負1%回差 1.0%靈敏度0.5%外形尺寸 1214*850*450mm |
英國MANCHESTER曼徹斯特國際知名品牌閥門產品調節閥系列之《調節閥》 ★★★調節閥,英國調節閥廠家,英國曼徹斯特調節閥,英國MANCHESTER曼徹斯特國際知名品牌閥門 調節閥說明書、電動調節閥、氣動調節閥、單座調節閥、雙座調節閥、壓力調節閥、溫度調節閥、自力式調節閥、三通調節閥、分流調節閥、合流調節閥、鑄鐵調節閥、鑄鋼調節閥、不銹鋼調節閥、蒸汽調節閥、微壓調節閥、籠式調節閥、套筒調節閥、電子式調節閥、精小型調節閥、風量調節閥、溫控調節閥、空調調節閥、防火調節閥、手動調節閥、角式調節閥、回轉式調節閥、多葉調節閥、差壓調節閥、直通調節閥、密封調節閥、給水調節閥、防爆調節閥、自動調節閥、襯塑調節閥、鎖閉調節閥、恒流量調節閥、瓣式調節閥、自力式壓力控制閥、自力式溫度控制閥等。材質:不銹鋼、鑄綱、鑄鐵、鍛鋼、鋁合金、A105、316、304。產品廣泛應用于水處理設備、化工設備、石化設備、石油設備、造紙設備、采礦設備、電力設備配套、液化氣設備、食品設備、制藥設備、給排水設備、機械設備閥門、電子工業閥門,城建閥門、工業管道閥門、通用零部件、工業設備、消防暖通、過濾設備、環保設備等領域。 歡迎廣大各界商友來電咨詢,問價,參觀,技術交流謝謝大家的支持!
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上海伯東代理美國原裝進口 KRi 射頻離子源 RFICP 220 高能量柵離子源, 適用于離子濺鍍, 離子沉積和離子蝕刻. 在離子束濺射工藝中, 射頻離子源 RFICP 220 配有離子光學元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實現更佳的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 離子光學元件能夠完成發散和聚集離子束的任務. 標準配置下射頻離子源 RFICP 220 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 1000 mA.KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術參數:
陽 | 電感耦合等離子體 2kW & 2 MHz 射頻自動匹配 |
大陽功率 | >1kW |
大離子束流 | > 1000mA |
電壓范圍 | 100-1200V |
離子束動能 | 100-1200eV |
氣體 | Ar, O2, N2, 其他 |
流量 | 5-50 sccm |
壓力 | < 0.5mTorr |
離子光學, 自對準 | OptiBeamTM |
離子束柵 | 22cm Φ |
柵材質 | 鉬 |
離子束流形狀 | 平行,聚焦,散射 |
中和器 | LFN 2000, MHC 1000 |
高度 | 30 cm |
直徑 | 41 cm |
鎖緊安裝法蘭 | 10”CF |
KRI 射頻離子源 RFICP 220 基本尺寸KRI 射頻離子源 RFICP 220 應用域:預清洗表面改性輔助鍍膜 (光學鍍膜) IBAD,濺鍍和蒸發鍍膜 PC離子濺射沉積和多層結構 IBSD離子蝕刻 IBE射頻離子源 RFICP 220 集成于半導體設備, 實現 8寸芯片蝕刻1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產寬束離子源, 根據設計原理分為考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項利. KRi 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光工藝 IBF 等域, 上海伯東是美國 KRi 考夫曼離子源中國總代理.若您需要進一步的了解 KRI 射頻離子源, 請參考以下聯絡方式上海伯東: 葉小姐 臺灣伯東: 王小姐T: +86-21--3511 ext 107 T: +886-3--9508 ext 161F: +86-21-- F: +886-3--0049M: +86 -883- M: +886---958上海伯東版權所有, 翻拷必究!
本產品以配套制藥設備、食品和飲料流水線、紡織印染、水處理設備、工藝洗滌溶解設備、專用配套衛生級開關(調節)的閥門。