掃描電子顯微鏡（SEM）產品及廠家
jsm-it800shl 是日本電子株式會社（jeol） 2020 年新推出的場發射掃描電鏡，它秉承 jeol 熱場發射掃描電鏡 jsm-7900f 的大束流，高穩定性的傳統，同時將分辨率提高到新的限，全新設計的超混合型物鏡，高分辨率的獲得以及磁性樣品的觀察都可以同時完成，而且標配 jeol 新開發的 neo
更新時間:2024-12-20
德國zeiss蔡司聚焦離子束掃描電鏡fib/sem crossbeam 350，crossbeam 550
更新時間:2024-12-20
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it200 intouchscope ，是一款更簡潔、更易于使用且性價比高的掃描電子顯微鏡。使用初學者易懂的樣品交換導航，可以輕松地從樣品臺搜索視野并開始觀察sem圖像。zeromag能像光鏡一樣直觀地搜索視野，live analysis*2可以不用特意分析就能實時獲取元素分析結果，smile viewtm lab能綜合編輯觀察和分析報告等。
更新時間:2024-12-20
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500hr，采用新開發的高亮度電子槍和透鏡系統，可以更迅速便捷地提供令人驚嘆的高分辨率圖像、高靈敏度和高空間分辨率；從設定視野到生成報告，利用完全集成的軟件大大地提高了作業速度。
更新時間:2024-12-20
日本jeol低溫冷凍離子切片儀ib-09060cis，冷卻保持時間長，有效地抑制了熱損傷。易受熱損傷的樣品，也能方便地制作出薄膜樣品和截面樣品。
更新時間:2024-12-20
日本jeol 離子切片儀 em-09100is ，用于tem 、stem 、 sem 、 epma 和 auger樣品制備的創新方法 離子切片儀制備薄膜樣品比傳統制備工具快速、簡單。低能量、低角度（0°到6°）的氬離子束通過遮光帶照射樣品，大大降低了離子束對樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質量也好，對不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。
更新時間:2024-12-20
日本jeol截面樣品拋光儀ib-19530cp，采用多用途樣品臺，通過交換各種功能性樣品座實現了功能的多樣化。根據需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時間:2024-12-20
日本jeol截面樣品制備裝置ib-19530cp，采用多用途樣品臺，通過交換各種功能性樣品座實現了功能的多樣化。根據需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時間:2024-12-20
日本jeol 截面樣品拋光儀 ib-19520ccp，在加工過程中利用液氮冷卻，能減輕離子束對樣品造成的熱損傷。冷卻持續時間長、液氮消耗少的構造設計。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻、恢復到室溫，并且可以拆卸。配有傳送機構，在隔離空氣的環境下能完成從加工到觀察的全過程。
更新時間:2024-12-20
日本jeol 軟x射線分析譜儀，通過組合新開發的衍射光柵和高靈敏度ｘ射線ccd相機，實現了高的能量分辨率。 和eds一樣可以并行檢測，并且能以0.3ev(費米邊處al-l基準)的高能量分辨率進行分析，超過了wds的能量分辨率。
更新時間:2024-12-20
日本jeol 電子探針顯微分析儀 jxa-ihp100，可以安裝通用性強、使用方便的能譜儀x射線探測器，組合使用wds和eds，能提供無縫、舒適的分析環境。
更新時間:2024-12-20
日本jeol 聚焦離子束加工觀察系統 jib-4000，配置了高性能的離子鏡筒(單束fib裝置)。被加速了的鎵離子束經聚焦照射樣品后，就能對樣品表面進行sim觀察 、研磨，沉積碳和鎢等材料。還可以為tem成像制備薄膜樣品，為觀察樣品內部制備截面樣品。通過與sem像比較，sim像能清楚地顯示出歸因于晶體取向不同的電子通道襯度差異，這些都非常適合于評估多層鍍膜的截面及金屬結構。
更新時間:2024-12-20
日本jeol 雙束加工觀察系統 jib-4700f，該設備的sem鏡筒中采用了超級混合圓錐形物鏡、gb模式和in-lens檢測器系統，在1kv低加速電壓下,實現了1.6nm的保證分辨率,與最大能獲得300na探針電流的浸沒式肖特基電子槍組合，可以進行高分辨率觀察和高速分析。
更新時間:2024-12-20
日本jeol 能量色散型x射線熒光分析儀 jsx-1000s，采用觸控屏操作、提供更加簡便迅速的元素分析。具備常規定性、定量分析（fp法・檢量線法）、rohs元素篩選功能等。利用豐富的硬件/軟件選配件、還能進行更廣泛的分析。
更新時間:2024-12-20
德neaspec真空太赫茲波段近場光學顯微鏡hv-thz-neasnom，該套系統成功地繼承了德國neaspec公司thz-neasnom的設計優勢，采用專利保護的雙光路設計，完全可以實現真空環境下太赫茲波段應用的樣品測量。hv-thz-neasnom在實現30nm高空間分辨率的同時，由于采用0.1-3thz波段的時域太赫茲光源（thz-tds），也可以實現近場太赫茲成像和圖譜的同時測量。
更新時間:2024-12-20
德國ksi i-wafer型全自動晶圓超聲波缺陷檢測系統，在ksi i-wafer的探測下，晶圓中的孔隙、分層或者雜質都能被發現。尺寸在450mm的多種晶圓也能進行檢測
更新時間:2024-12-20
ksi i-ingot型全自動晶錠分析檢測系統,適用于對晶錠的無損檢測，有了它，晶錠內部的裂縫或雜質就能得到快速檢測，晶錠的尺寸可達450mm，檢測時間短，也不需要做其它設定。
更新時間:2024-12-20
sem掃描電鏡，臺式掃描電子顯微鏡在電子學研究中，掃描電鏡主要可以用來觀測及分析半導體、數據存儲材料、太陽能電池、led、元器件、pcb板及mems器件等的形態或缺陷 。
更新時間:2024-12-20
sem掃描電鏡，臺式掃描電子顯微鏡在電子學研究中，掃描電鏡主要可以用來觀測及分析半導體、數據存儲材料、太陽能電池、led、元器件、pcb板及mems器件等的形態或缺陷 。
更新時間:2024-12-20
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨特的低真空系統使得樣品不需任何處理即可快速進行觀察。 tm4000ⅱ優化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調，并配備4分割背散射探測器，可采集四個不同方向的圖像信息，對樣品進行多種模式成像。具有全新的sem-map導航功能，同時，電鏡圖片可以報告形式導出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時間:2024-12-19
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨特的低真空系統使得樣品不需任何處理即可快速進行觀察。 tm4000ⅱ優化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調，并配備4分割背散射探測器，可采集四個不同方向的圖像信息，對樣品進行多種模式成像。具有全新的sem-map導航功能，同時，電鏡圖片可以報告形式導出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時間:2024-12-19
flexsem1000 ii是日立新的落地式小型鎢燈絲掃描電鏡，具有體積小、操作簡單、性能強、擴展功能豐富等特點。flexsem1000 ii配備了二次電子探測器和背散射電子探測器，可以觀察樣品的形貌和成分；同時具有低真空功能，可以直接觀察不導電樣品和含水樣品；配合新增的sem-map光鏡導航和5軸樣品臺可以快速、高效的完成觀察任務。
更新時間:2024-12-19
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨特的低真空系統使得樣品不需任何處理即可快速進行觀察。 tm4000ⅱ優化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調，并配備4分割背散射探測器，可采集四個不同方向的圖像信息，對樣品進行多種模式成像。具有全新的sem-map導航功能，同時，電鏡圖片可以報告形式導出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時間:2024-12-19
flexsem1000 ii是日立新的落地式小型鎢燈絲掃描電鏡，具有體積小、操作簡單、性能強、擴展功能豐富等特點。flexsem1000 ii配備了二次電子探測器和背散射電子探測器，可以觀察樣品的形貌和成分；同時具有低真空功能，可以直接觀察不導電樣品和含水樣品；配合新增的sem-map光鏡導航和5軸樣品臺可以快速、高效的完成觀察任務。
更新時間:2024-12-19
日立2011年新推出了su9000超高分辨冷場發射掃描電鏡，達到掃描電鏡世界最高二次電子分辨率0.4nm和stem分辨率0.34nm。日立su9000采取了全新改進的真空系統和電子光學系統，不僅分辨率性能明顯提升，而且作為一款冷場發射掃描電鏡甚至不需要傳統意義上的flashing操作，可以高效率的快速獲取樣品超高分辨掃描電鏡圖像。 特點： 1. 新型
更新時間:2024-12-19
s-3400n掃描電子顯微鏡 s-3400n具有最新開發的電子光學系統，強大的自動化功能，操作更簡易。 特點: 1. s-3400n具有強大的自動功能，包括自動燈絲飽和、4偏壓、自動槍對中、自動束流設定、 自動合軸自動聚焦和消像散、自動亮度對比度等。 2. 在3kv低加速電壓時
更新時間:2024-12-19
s-3700n 多功能分析型可變壓掃描電鏡 研究超大，超重，超高樣品的分析型掃描電鏡 ● 最大可載樣品直徑達300mm ●最大觀察區域直徑達203mm ● 在觀察110mm高樣品時可進行能譜分析 ● 樣品室設置多種接口，可安裝eds、wds、ebsd和cl等多種分析用附件 ● 5軸優中心馬達臺可以傾
更新時間:2024-12-19
table-sem (臺式掃描電子顯微鏡)主要功能 1) 大放大倍率15萬倍 2) top-view ccd 相機 - navigation mode : 樣品原圖像抓取 - click & move (auto) 3) fully motorzied stage - x,y,r,z,t - 5軸 - recipe function : 分析位置儲存后再分析功能 4) b type : se (二
更新時間:2024-12-17
table-sem (臺式掃描電子顯微鏡)主要功能 1) 大放大倍率15萬倍 2) top-view ccd 相機 - navigation mode : 樣品原圖像抓取 - click & move (auto) 3) fully motorzied stage - x,y,r,z,t - 5軸 - recipe function : 分析位置儲存后再分析功能 4) b type : se (二
更新時間:2024-12-17
可實現大范圍、超高速、高精度與高重復性的激光光束掃描。多面掃描鏡裝置/多面轉鏡包括電機與多面鏡，多面鏡具有多個反射面，并安裝在電動機的旋轉軸上。通過電機的旋轉，多面鏡可實現高速旋轉，從而實現大角度、高速的光束掃描。
更新時間:2024-12-13
產品說明： kyky-em3200系列掃描電鏡在電氣控制系統、計算機系統、操作控制軟件、圖像控制系統、圖像處理軟件、自動控制功能 等諸多方面都進行了改進。主要特點是穩定可靠、結構緊湊、操作方便、維護簡單，是一款性價比較高的經濟型電鏡。
更新時間:2024-12-11
類型 電子顯微鏡 品牌 中科 型號 kyky-em6900 目鏡放大倍數 n/a 物鏡放大倍數 n/a 儀器放大倍數 1.5-300000x 加工定制 否
更新時間:2024-12-11
產品說明： kyky-2800型掃描電子顯微鏡是中國科學院在幾十年的掃描電鏡研究和生產基礎上，引用現代最新計算機及數字圖像技術， 開發出的高性能產品。該產品除具有原kyky電鏡優良工藝和穩定可靠特性外，新增加了各種計算機自動控制及調節功能，尤其是采用了專用圖像處理器進行圖像分析處理，使掃描電鏡與圖像分析得到完美結合。在window
更新時間:2024-12-11
掃描電子顯微鏡 (sem) 不僅是開展科研工作所必不可少的工具，對于需要品控的制造工廠也是不可或缺的。 在這些場景中，用戶需要重復執行相同的觀察操作，因此快速完成這些操作有助于提高工作效率。 jsm-it510 新增的“簡單 sem”功能，用戶可將 sem 觀察所需的“手動重復操作交給它”，從而更高效、更輕松地完成 sem 觀察。
更新時間:2024-12-10
ss-60系列臺式掃描電鏡具有體型小巧,占用空間小；放大倍率30 ~60,000 x，15nm分辨率；采用二次電子和背散電子雙重探測器；ss-60掃描電鏡具有強大軟件功能,操作簡單,易于維護；國產掃描電鏡，良好售后服務系統。
更新時間:2024-12-10
ss-150系列臺式掃描電鏡具有體型小巧,占用空間小；放大倍率30~150,000 x ；5nm分辨率；采用二次電子和背散電子雙重探測器；通過選配eds可進行元素成份分析；ss-150系列掃描電鏡具有強大軟件功能,操作簡單,易于維護；國產掃描電鏡，良好售后服務系統。
更新時間:2024-12-10
zem15掃描速度快，信號采集帶寬10m，可以在視頻模式下流暢實時的顯示樣品。只需鼠標就可完成所有操作，不需對中光闌等復雜步驟，聚焦消像散后可直接拍圖。主機集成高壓及控制系統，體積小巧，便于移動，可出差攜帶，安裝無需特殊環境，只需找一張桌子，供電就可工作。
更新時間:2024-12-10
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數 175,000 倍，用于觀察亞微米樣品的微觀結構。pure 具有全自動操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點，適用于傳統大電鏡待測樣品的快速篩選，也適合于光學顯微鏡的分辨率無法滿足需求的客戶。
更新時間:2024-12-10
第六代 phenom pro 臺式掃描電鏡是一款功能強大，輕松易用的多功能設備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴展了研究設備的功能，結合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時間:2024-12-10
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結構的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2024-12-10
放大倍數：20000x；分辨率：優于30nm；燈絲：1500小時ceb6燈絲抽真空時間：10；樣品移動方式：自動馬達樣品臺樣品定位方式：光學和低倍電子雙重導航樣品導電性要求：無需噴金，直接觀測絕緣體
更新時間:2024-12-10
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結構的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2024-12-10
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