激光共聚焦顯微鏡產品及廠家
激光共聚焦顯微鏡 ncf950 是一款簡單、高效、高度集成的共聚焦顯微鏡。ncf950是為實驗室科學研究設計的重要的基礎工具，提供了強大而穩定的成像能力以及高度集成的電動化能力。共聚焦顯微鏡的應用廣泛，實驗數據可靠，分析處理軟件功能豐富。在細胞及分子生物學、藥物篩選、大腦和神經科學、免疫學、形態學、食品衛生、發酵、遺傳學、藥理學等域具有重要的作用。
更新時間:2024-12-19
上海巴玖提供的共聚焦激光顯微鏡系統，具有以下幾點特征：--質量穩定：實行過程質量監控，細致入微，方位檢測！--價格合理：高效內部成本控制，減少了開支，讓利于客戶！--交貨快捷：先進生產流水線，充足的備貨，縮短了交貨期！
更新時間:2024-12-03
上海巴玖提供的共聚焦顯微鏡，具有以下幾點特征：--質量穩定：實行過程質量監控，細致入微，方位檢測！--價格合理：高效內部成本控制，減少了開支，讓利于客戶！--交貨快捷：先進生產流水線，充足的備貨，縮短了交貨期！
更新時間:2024-12-03
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更新時間:2024-12-03
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更新時間:2024-12-03
imagexpress confocal ht.ai 智能化共聚焦高內涵成像分析系統imagexpress confocal ht.ai 智能化共聚焦高內涵成像分析系統采用了具有 8 個成像通道的 7 色激光光源，實現了高擴展性的多通道成像
更新時間:2024-12-02
imagexpress micro confocal共聚焦高內涵成像系統共聚焦高內涵成像系統ixm-c是目前功能較為靈活的高內涵系統。得益于共聚焦成像清晰的特點，實驗者可以對活細胞或固定后的細胞進行更好的定量分析。利用這套系統實驗者可以輕易
更新時間:2024-12-02
共聚焦成像新提高所有實驗的靈敏度，分辨率和速度。 成像時幾乎沒有光毒性或漂白現象 - 不改變您的工作流程，樣本標記或系統操作。airyscan獨特的快速模式可以將您的成像速度提高四倍。 這相當于共振掃描共聚焦顯微鏡的速度，卻又不犧牲靈敏度或分辨率。
更新時間:2024-12-02
日本lasertec公司提供的eccs b310/b320型電化學反應可視化共焦系統，可以實現充放電狀態下，鋰電池的電化學反應進程分布的觀察、定量化。本系統使用共焦顯微鏡技術，觀察充放電狀態的鋰電池內部，活性物質的膨脹、收縮、不均勻的反應分布，樹枝晶、氣體產生能夠容易地可視化、定量化，原本需要花費數周、數月的電池初期評價可以縮短數天
更新時間:2024-11-05
3d白光干涉共焦顯微鏡，集成共聚焦的橫向分辨率和白光干涉儀的縱向分辨率，可快速、準確的獲取高精度表面三維形貌信息，并進行高精度測量和數據分析。
更新時間:2024-10-29
徠卡三維共聚焦干涉顯微鏡dcm8產品特點：leica dcm8采用了*新的非接觸式三維光學表面測量技術。設計用于提高您的工作效率，它是一款融合了高清晰度共聚焦顯微鏡和干涉測量技術優點的多功能雙核系統。一鍵模式選擇，精密軟件、無移動部件的高分辨率共聚焦掃描技
更新時間:2024-10-29
picofemto透射電鏡原位stm-tem低溫電學測量系統,是在標準外形的透射電鏡樣品桿內加裝掃描探針控制單元,通過探針對單個納米結構進行操縱和電學測量。
更新時間:2024-10-29
picofemto透射電鏡原位高溫力學測量系統picofemto透射電鏡原位高溫力學測量系統,同時集成了力學測量模塊及mems芯片模塊,可以在對樣品1000 ℃加熱的同時進行定量的力學測量。
更新時間:2024-10-29
picofemto原位mems-stm-tem多場測量系統，原位透射電子顯微鏡實驗系統，使研究者可以在透射電子顯微鏡中構建一個可控的多場環境（包括力、熱、光、電等）
更新時間:2024-10-29
picofemto透射電鏡原位stm-tem光電一體測量系統,是在標準外形的透射電鏡樣品桿內加裝掃描探針控制單元,通過探針對單個納米結構進行操縱和電學測量,
更新時間:2024-10-29
picofemto透射電鏡原位stm-tem力電一體測量系統picofemto透射電子顯微鏡原位tem-stm測量系統是在標準外形的透射電鏡樣品桿內加裝掃描探針控制單元,通過探針對單個納米結構進行操縱和電學測量
更新時間:2024-10-29
很低維護成本：設備配套的針尖制備系統可低成本制備針尖耗材。”爪-球“微動結構已實現模塊化量產，維護成本低；很大的用戶群：在國內擁有近200個高質量原位用戶，出口到歐美澳等地。每年，用戶會產出大量高質量研究成果。定期組織各類用戶交流活動，搭建學術平臺供用戶交流；成熟的技術支持網絡：在安徽、北京、東莞和上海擁有分公司，其他各地擁有若干技術支持網點，24小時提供技術支持。
更新時間:2024-10-29
picofemto透射電鏡原位mems氣氛加熱測量系統picofemto透射電鏡原位mems氣氛加熱測量系統，在透射電子顯微鏡中制造氣氛及高溫環境，實現1 bar & 800 ℃的端觀測條件。
更新時間:2024-10-29
picofemto透射電鏡原位mems液體電化學測量系統，采用全新的o圈輔助密封設計，更易封裝液體。實驗中，樣品被密封在很薄氮化硅薄膜覆蓋的液體池內，池內可以承載一個大氣壓。芯片電聯通外接電路，從而在電鏡中搭建一個液體-電化學測試環境。
更新時間:2024-10-29
picofemto透射電鏡原位mems低溫電學測量系統，是在標配mems芯片樣品桿上集成低溫控制模塊，實現低溫電學測量或全溫區測量功能。
更新時間:2024-10-29
您可輕松調用之的顯微鏡設置并通過獨特的軟件功能“保存和調用”(store and recall) 即時復制成像參數。適用于任何類型的樣本。一鍵式“智能自動化”可讓您輕松搞定重復性工作。這些具有記憶功能的顯微鏡可幫您減少培訓時間、改進工作流程和獲得出色的成像結果 — 始終如一。
更新時間:2024-10-29
徠卡正置式智能顯微鏡dm6m，全自動數字顯微鏡系列為用戶提供了很多所未有的解決方案，其中凸出的一點就是幫助用戶簡化顯微鏡的操作，使顯微鏡使用簡單，準確，得心應手。智能化的設計幫助您以簡單的操作完成復雜的調節程序，實現多種多樣的研究及診斷。
更新時間:2024-10-29
徠卡 dm8000 m 提供了全新的光學設計，如理想的 宏觀檢查模式 或者傾斜紫外光 (ouv, 隨檢uv 選擇) 不但提高了分辨能力，同時也增加了觀察 8’’/200 毫米直徑大樣品 時的產量。該機照明 基于新的 led 科技 ，一體化整合在顯微鏡機身上。 低熱輻射效應和一體化內置技術確保了顯微鏡四周空間具有 理想化的空氣環流。 led的超長使用壽命和低能耗特性大大降低了用戶 后的使用成本
更新時間:2024-10-29
該機照明 基于新的 led 科技 ，一體化整合在顯微鏡機身上。 低熱輻射效應和一體化內置技術確保了顯微鏡四周空間具有 理想化的空氣環流。 led的超長使用壽命和低能耗特性大大降低了用戶 后的使用成本.
更新時間:2024-10-29
如果您想要研究晶體結構，偏光顯微鏡將是您的佳選擇。無論是礦物和接合劑，我們的偏光顯微鏡都能幫助您觀察到感興趣的內容，完成您的研究或質量保證任務。
更新時間:2024-10-29
您需要一些組件來實現偏光研究目標。以下都是重要的組件：無應力光學部件，因為您需要確保觀測到的雙折射來自樣品而非光學部件led 照明至關重要，因為這種照明能夠均勻照亮樣品，并具有恒定的色溫偏光鏡幫助您看到雙折射，旋轉臺幫助您對準樣品和光軸您還需要用于對光軸進行錐光觀察的勃氏鏡和用于測量任務的補償器
更新時間:2024-10-29
如果您想要研究晶體結構，偏光顯微鏡將是您的佳選擇。無論是礦物、塑料和聚合物、藥物藥品或燃料和接合劑，我們的偏光顯微鏡都能幫助您觀察到感興趣的內容，完成您的研究或質量保證任務。令樣品呈現水晶般清晰透亮
更新時間:2024-10-29
徠卡dm750 m是一臺理想地適用于基礎材料應用的工業實驗室或材料科學的光學設備。它的萬能載物臺和反射光系統適合幾乎所有的樣品來獲取高品質圖像。
更新時間:2024-10-29
在競爭中保持先是您事業進的動力。無論您從事金相學、醫療設備制造還是微電子域，速度都顯得至關重要。您可根據自身需求定制徠卡這款高度模塊化的倒置式顯微鏡。它將徠卡優異的光學品質、豐富的對比度模式以及直觀易用的軟件集于一身，有助于加速您的工作流程。
更新時間:2024-10-29
徠卡dmilm倒置金相顯微鏡可配多種觀察筒,適應不同的要求與檢測觀察方式,操作簡單,檢測快捷高效。光學設計上采用先進的hcs無限遠軸向、徑向雙重色差校正光學技術，徹底消除雜散光等干擾因素；整個光學系統內, 對涉及成像質量的所有組件(物鏡、鏡筒透鏡、目鏡筒、目鏡、照相接口等) 進行優化組合，實現圖像分辨率和反差的優化，得到銳利圖像的同時追求高分辨率。
更新時間:2024-10-29
徠卡s系列體視顯微鏡包含s9系列體視顯微鏡s9e/s9d/s9i及s apo為了保持競爭力，持續改進生產、保持低缺陷率以及滿足客戶要求都具挑戰性。徠卡開發的s系列體視顯微鏡系列可助您戰勝這些挑戰
更新時間:2024-10-29
借助徠卡m80，操作者可以看到大型樣品的預覽圖，在顯微鏡下舒適工作，輕松采集重要細節的圖像。利用徠卡 m80的鎖定光圈，可為重復性任務創建可追蹤的測量步驟。
更新時間:2024-10-29
徠卡dvm6視頻顯微鏡，也是一款可單手操作的數碼顯微鏡：攝像頭像素高分辨率高達1000萬，圖像更清晰；16:1的變倍比，更換放大倍率更快；兩個物鏡可覆蓋所有倍率區間。
更新時間:2024-10-29
emspira 3數碼顯微鏡在同一個系統中結合了執行全面的目視檢查所需的所有功能，包括比較、測量和文檔共享。使用emspira 3數碼顯微鏡檢查不同的樣本，快速達到高要求、高通量的目標。 有助高效做出決定，獲益于文檔的安全存儲和輕松分享——無論您以獨立模式還是與計算機相連進行檢查。emspira 3數碼顯微鏡設計堅固，您可以在生產和實驗室環境中充滿信心地注于您的檢查工作。
更新時間:2024-10-29
可容納大樣品尺寸50*50*10mm，可獲得有效切割截面面積>4mm*1mm 三把離子槍，離子束能量1kev-10kev，切割速率150um/h離子束處理過程中樣品位置固定，無需偏轉運動，無投影效應，熱傳導性好
更新時間:2024-10-29
live-sr基于具有在線處理的光學解調結構化照明技術，與轉盤共聚焦相結合，能夠以高速和低光毒性實現超分辨率成像，使其成為高分辨率活細胞成像的理想解決方案。此外，由于光調制的性質，沒有產生線或圖案偽影，采集的圖像可以獲得超分辨率圖像。
更新時間:2024-10-28
該產品搭配有支持多目的表面測量國際標準“iso 25178*1參數對比工具”，通過簡單而準確的樣品測量支持客戶的分析業務，與此同時，憑借不斷創新積累的三維測量性能，實現高精度、高分辨率的表面性狀的測量。
更新時間:2024-10-25
zeta-388支持3d量測和成像功能，并提供整合隔離工作臺和晶圓盒到晶圓盒的晶圓傳送系統，可實現全自動測量。該系統采用zdot™技術，可同時采集高分辨率3d數據和true color（真彩）無限遠焦點圖像。zeta-388具備multi-mode（多模式）光學系統、簡單易用的軟件、低擁有成本，以及secs / gem通信，適用于研發及生產環境。
更新時間:2024-10-18
filmetrics® profilm3d®和filmetrics profilm3d-200光學輪廓儀采用白光干涉測量(wli)技術，是經濟實用的非接觸式3d表面形貌測量系統。profilm3d系列可以測量從納米到毫米的表面特征，并生成
更新時間:2024-10-18
zeta-300支持3d量測和成像的功能，并提供整合隔離工作臺和靈活的配置，可用于處理更大的樣品。該系統采用zdot™技術，可同時采集高分辨率3d數據和true color（真彩）無限遠焦點圖像。zeta-300具備multi-mode（多模式）光學系統、簡單易用的軟件、以及低擁有成本，適用于研發及生產環境。
更新時間:2024-10-18
上海巴玖提供的共聚焦顯微鏡，具有以下幾點特征：--質量穩定：實行過程質量監控，細致入微，方位檢測！--價格合理：高效內部成本控制，減少了開支，讓利于客戶！--交貨快捷：先進生產流水線，充足的備貨，縮短了交貨期！
更新時間:2024-10-17
上海巴玖提供的共聚焦顯微鏡，具有以下幾點特征：--質量穩定：實行過程質量監控，細致入微，方位檢測！--價格合理：高效內部成本控制，減少了開支，讓利于客戶！--交貨快捷：先進生產流水線，充足的備貨，縮短了交貨期！
更新時間:2024-10-17
上海巴玖提供的共聚焦顯微鏡，具有以下幾點特征：--質量穩定：實行過程質量監控，細致入微，方位檢測！--價格合理：高效內部成本控制，減少了開支，讓利于客戶！--交貨快捷：先進生產流水線，充足的備貨，縮短了交貨期！
更新時間:2024-10-17
smartproof 5快速轉盤共聚焦顯微鏡以共聚焦光學為基本原理，采用獨創的高速轉盤掃描技術為成像方法，將高分辨率與速度完美結合在一起，是一款能夠快速提供工業零部件表面三維輪廓，并可實現非接觸式表面粗糙度測量的精密分析儀器。
更新時間:2024-10-09
納米檢測顯微鏡 lext ols4500lext ols4500大大縮短了獲取影像時間的同時保護了探針，并且不用擔心觀測目標的丟失。另外，這種一體的革新設計可以實現對同一對象的多手段原位觀測，從而提高了對觀測結果分析解釋的準確性和可信度！
更新時間:2024-09-04
vt6000系列共聚焦激光顯微鏡在結構復雜且反射率低的表面3d微觀形貌重構與檢測方面具有不俗的表現。基于針孔點光源的共軛共焦原理，其依托弱光信號解析算法可以完整重建出近70°陡峭的復雜的結構形狀，解決電子產品中一些光學薄膜表面存在一些特殊的微結構(這些結構表現為窄而深的“v形”、“金字塔”)測量難點。
更新時間:2024-07-30
中圖儀器vt6000激光共聚焦顯微鏡由led光源發出的光束經過一個多孔盤和物鏡后，聚焦到樣品表面。之后光束經樣品表面反射回測量系統。再次通過mpd上的針孔時，反射光將只保留聚焦的光點。后，光束經分光片反射后在相機上成像。
更新時間:2024-07-30
在相同物鏡放大的條件下，vt6000共聚焦成像顯微鏡系統所展示的圖像形態細節更清晰更微細，橫向分辨率更高。更擅長微納粗糙輪廓的檢測，能夠提供色彩斑斕的真彩圖像便于觀察。
更新時間:2024-07-30
vt6000共聚焦顯微成像系統是一款用于對各種精密器件及材料表面進行微納米測量的檢測儀器。可測各類包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面，從納米到微米別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等，提供依據iso/asme/eur/gbt四大國內外標準共計300余種2d、3d參數作為評價標準。
更新時間:2024-07-30
vt6000國產共聚焦顯微鏡微觀形貌觀察基于光學共軛共焦原理，結合精密縱向掃描，以在樣品表面進行快速點掃描并逐層獲取不同高度處清晰焦點并重建出3d真彩圖像，從而進行分析。vt6000國產共聚焦顯微鏡微一般用于略粗糙度的工件表面的微觀形貌檢測，可分析粗糙度、凹坑瑕疵、溝槽等參數。
更新時間:2024-07-30
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